研究開発
概要
本拠点では、新たな切り口（X）として「スピントロニクス」を中核に据え、材料・素子から集積プロセス・回路・アーキテクチャ・チップ・システムに至る一連の半導体研究開発を推進します。加えて、スピントロニクス材料が秘めた物性、機能性を開拓し、スピン×フォトニクス、スピン×ニューロモルフィクス、スピン×トポトロニクス等の革新的情報処理通信技術の新たな基盤となる学術領域を世界に先駆けて創成し、新概念コンピューティングへの展開を図ると共に、MOSFET、3次元実装、医療、情報セキュリティ、宇宙データセンタなど新たな応用を開拓する新技術の創出を目指して参ります。
本拠点が開拓する研究開発領域
我が国が世界を牽引するスピントロニクスを新たな切り口Xとして中核に据え、様々な新材料・素子とその特性を引き出す回路・アーキテクチャを有機的に研究開発
⇒日本の強みを有する堅牢な学術・技術基盤と両分野のシナジーに支えられた世界的競争力を持つ研究領域
研究開発の実施スキーム
- 材料から集積化までを繋ぐ3階層で推進：
- 基礎・基盤研究レイヤ(下段)で基礎研究を広く展開(多種多様な研究者の参画)し新学理創出/新応用開拓
- 有望技術を単体素子実証レイヤ(中段)、集積化実証レイヤ(上段)へ移管しプロトタイプ検証
- 協力民間企業が市場調査、仕様検討、出口戦略、キラーアプリを検討して、社会実装に向け研究開発を支援
